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激光过程气分析系统
参考价:¥65000

型号:NK-800系列

更新时间:2024-06-04  |  阅读:1841

详情介绍

NK-800系列激光过程气分析系统是基于半导体激光吸收光谱(DLAS)技术的过程气体分析系统,能够在各种环境(尤其是高温、高压、高粉尘、强腐蚀等恶劣环境下)进行气体浓度等参量的在线测量,并具有准确性高、相应速度快、可靠性高、运行费用低等特点,为生产优化、能源回收、安全控制、环保监测和科研分析带来极大的方便,在钢铁冶金、石油化工、环境保护和能源电力等行业已得到广泛的应用。


激光气体分析仪原理:

半导体激光吸收光谱技术—利用激光能量被气体分子“选频"吸收形成吸收光谱的原理来测量气体浓度。半导体激光器发射出特定波长激光束(仅被被测气体吸收),穿过被测气体时,激光强度的衰减与被测气体浓度成一定函数关系,因此,通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。


激光过程气分析系统特点:

1、无需采样,现场测量

2响应速度快(<2秒)

3测量精度高(≤±1%)

4不受背景气体交叉干扰

5自动修正粉尘及光学视窗污染影响

6结构简单紧凑、可靠性高,操作维护方便,运行费用低

7模块化设计,可现场更换所有功能模块

8、安装方式灵活(可选抽取式、原位式)

9、不受背景气体交叉干扰的影响

10、自动修正粉尘和视窗污染对测量浓度的影响

11、消除气体环境参数(温度和压力等)变化对测量的影响


激光原理不同气体测量参数:

气体

测量精度

测量范围

O2

100ppm

0-1% Vol.,0-100%Vol.

C O

10 ppm

0-1000ppm,0-100%Vol.

C O2

10 ppm

0-2000ppm,0-100%Vol.

H2O

0.3 ppm

0-10ppm,0-100%Vol.

H2S

20 ppm

0-200ppm,0-100%Vol.

HF

0.02 ppm

0-1ppm,0-100%Vol.

HCl

0.1 ppm

0-7ppm,0-100%Vol.

HCN

0.3 ppm

0-20ppm,0-1%Vol.

NH3

0.1 ppm

0-10ppm,0-100%Vol.

CH4

0.4 ppm

0-200ppm,0-100%Vol.

C2H2

0.1 ppm

0-10ppm,0-100%Vol.

C2H4

0.6 ppm

0-100ppm,0-100%Vol.

C H3l

0.6 ppm

0-100ppm,0-100%Vol.



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